桌面质量选择团簇束流源系统_功能特点_厂家

原子精确团簇

束流设备

案例展示

原子数选择金团簇沉积

结构调控金团簇沉积

Au923

Au55

01

设备特征

大尺寸范围：可制备小至单原子，大至直径大于10nm团簇；

窄尺寸分布：无质量选择条件下，团簇直径分布小于±10%；

广材料种类：可制备大部分金属，部分半导体、绝缘体团簇；

原子气产生：可配备蒸发源、磁控溅射、火花烧蚀等产生源；

气相冷凝腔：液氮、水冷；气压、温度可控；冷凝距离可调；

多沉积形式；兼容金属、玻璃、陶瓷、聚合物等衬底或粉末；

高束流流量：典型金属团簇束流>1nA；其他团簇束流>100pA；

稳沉积能量：精确可调，可实现团簇软着陆沉积、高能撞击；

计算机控制：功能软件控制，运行日志存档，实验参数调用；

大尺寸范围：可制备小至单原子，大至直径大于10nm团簇；

窄尺寸分布：无质量选择条件下，团簇直径分布小于±10%；

广材料种类：可制备大部分金属，部分半导体、绝缘体团簇；

原子气产生：可配备蒸发源、磁控溅射、火花烧蚀等产生源；

气相冷凝腔：液氮、水冷；气压、温度可控；冷凝距离可调；

多沉积形式；兼容金属、玻璃、陶瓷、聚合物等衬底或粉末；

高束流流量：典型金属团簇束流>1nA；其他团簇束流>100pA；

稳沉积能量：精确可调，可实现团簇软着陆沉积、高能撞击；

计算机控制：功能软件控制，运行日志存档，实验参数调用；

02

设备功能

深圳扩维原子科技有限公司开发的原子精确团簇束流系统，通过“原子产生+气相凝聚+质谱分选”的自下而上原子级制造技术，在气相中合成纳米团簇。基于近10年的深入研究与超过15台（套）设备的技术迭代，解决了高效率原子级精确操控的科学问题与团簇束流流量即团簇材料产能放大的技术问题，可以实现普适的元素精确、原子数精确以及原子排列结构精确团簇材料的高速率制造，兼容衬底、粉末、溶液等沉积方式，并可以根据您的要求进行定制。

02

附加功能

扫描沉积系统：真空内厘米级多轴移动平台，实现团簇的扫描沉积。

粉末沉积系统：通过振动、流化等分散方式，实现团簇的粉末沉积。

多元原子产生：集成2~3个磁控阴极，溅射多个靶材以形成合金团簇。

复合材料沉积：沉积腔配备蒸发源共沉积原子/薄膜，形成复合材料。

超高质量分辨：可定制反射式飞行时间质谱，串联三重四极杆质谱。

原子结构选择：可定制斯特恩-盖拉赫，利用磁场梯度实现结构选择。

原子捕获添加：可定制离子阱+蒸发源，实现团簇束流在线捕获原子。

定制超高真空：整体设备系统可以定制达到超高真空标准（可烘烤）。